2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会

Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition

基本信息

时间：2023年11月22-24日

地点：上海新国际博览中心

展会简介

微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。

随着集成电路产业的发展，芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的封装工艺发展需求的情况下，大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为封装生产线的关键设备。“2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会”将于11月22-24日在上海新国际博览中心隆重举办，欢迎广大相关单位参展、参观！

参展理由

1、品牌吸引力-在同行和客户间展示形象、提升行业地位、品牌价值度、荣誉度。

2、市场策略-了解市场信息、拓展销售渠道、获取市场订单、维护销售网络。

3、建立进口、批发、经销、团购、零售的销售渠道。

4、获取产品的忠实粉丝您的品牌将会被及大众媒体关注和跟踪宣传，成为产品中的明星。

观众邀请

邀请全国、省、市、各相关科研单位：电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。

展会亮点

平台：行业采购交流平台；

了解：规划、设计与施工国内外产品新技术及服务；

建立：用户直达现场，构建新的客户关系；

结识：上下游产业联动，精彩论坛、沙龙助推业界专家、同仁及用户零距离接触；

推广：通过主承办单位大的行业沉淀，为您提供广阔的市场推广；

日程安排

报到布展：

2023年11月20-21日

展出时间：

2023年11月22日

2023年11月23日

2023年11月24日

参展范围

◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；

◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；

◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等；

联系我们

联系人：李先生150-0190-9485（同微信）

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